国产替代新赛道:新型半导体载版-玻璃基板
2026-01-09

     近期,我国商务部对原产于日本的进口二氯二氢硅发起反倾销调查,维护我国半导体等产业合法权益。这一动作背后,折射出国内半导体产业链对关键战略材料的迫切突围需求。玻璃基板作为先进封装领域的核心材料之一,正成为国产替代的赛道焦点。

玻璃基板的概念

    玻璃基板(Glass Substrate)是指采用高性能玻璃材料作为半导体、显示面板、封装载体等电子元器件的基底材料。 玻璃基板具有优异的光学性能、热稳定性、化学稳定性和电学性能,在现代电子制造领域得到了广泛应用。 

       玻璃基板ZUI早应用于显示行业,如液晶显示(LCD)和有机发光二极管(OLED)面板,随后随着先进封装技术的发展,玻璃基板开始进入半导体领域,特别是在晶圆级封装(WLP)、面板级封装(PLP)、2.5D/3D封装、射频(RF)应用以及先进光学器件等领域。目前,玻璃基板被视为替代传统硅基板和有机基板(如PCB、BT基板)的重要材料之一,尤其在高密度互连、高频信号传输等应用中展现出独特优势。

玻璃基板与传统基板的差异

     目前,半导体行业主要使用的基板材料包括硅基板(Si Substrate)、有机基板(Organic Substrate,如PCB、BT基板)以及陶瓷基板(Ceramic Substrate)。玻璃基板与这些传统基板在多个方面存在显著差异:

1机械性能

      玻璃基板相比硅基板具有更高的抗弯强度,不易破碎。相比有机基板,玻璃基板的热膨胀系数(CTE)更接近硅材料,从而减少热应力引起的翘曲问题。

2介电性能

     玻璃的介电常数(Dk)低,通常在4-6之间,远低于硅基板(Dk约为11.7),在高频通信应用(如5G、毫米波)中可降低信号损耗,提升传输效率。玻璃的介电损耗(Df)更低,使其适用于高速信号传输。

3平整度与制造精度

     玻璃基板的表面平整度极高,远优于PCB和BT基板,这对先进封装中的微缩化线路加工(如RDL布线)至关重要。

4成本与工艺兼容性

    玻璃基板可通过面板级制造方式生产,具有更大的尺寸优势,有利于降低单位成本。玻璃基板的化学稳定性好,耐腐蚀性高,可在高温和腐蚀性环境下长期使用。

     由于这些优点,玻璃基板在高频高速应用(如5G基站、光通信、AI芯片封装)和先进封装技术(如Fan-Out封装、2.5D/3D封装)中成为重要的候选材料。

玻璃通孔(TGV)技术

      玻璃通孔(TGV)是指在玻璃基板上加工贯穿孔,并在孔内填充导电材料(如铜),以实现芯片之间的垂直互连。  TGV技术使玻璃基板在2.5D/3D封装中具备类似硅通孔(TSV)的互连能力,同时保持低成本和优异的介电性能。目前TGV主要采用以下加工工艺:

1激光钻孔(Laser Drilling)

    利用飞秒激光或皮秒激光直接刻蚀玻璃,适用于高精度微孔加工。

2湿法蚀刻(Wet Etching)

    通过HF等酸性溶液选择性腐蚀玻璃,适用批量生产。

3机械钻孔(Mechanical Drilling)

    使用超硬钻头加工,但效率较低。

    玻璃通孔加工完成后,需填充导电材料以实现电连接,常见方法包括:溅射(Sputtering)+ 电镀(Electroplating)、化学气相沉积(CVD)和金属浆料填充等工艺。TGV技术使玻璃基板能够实现高密度互连,同时兼具低损耗、高频特性,在5G、光通信、AI芯片封装等领域展现出巨大潜力。

SEM在表征玻璃基板中的应用

    表面形貌分析:SEM可用于观察玻璃基板的微观结构,评估加工质量,如表面粗糙度、裂纹、微孔尺寸等。同时通过断面观察,可评估玻璃基板的内部结构、金属填充状态,以及潜在的缺陷(如空洞、裂纹)。

图1  玻璃表面形貌观测(Apreo 2拍摄)

    玻璃通孔(TGV)分析:SEM可用于检测TGV孔径、孔壁质量、金属填充均匀性等关键指标,优化工艺参数。

图2  TGV通孔孔径等关键尺寸测量(图片来自网络)

      薄膜沉积质量检测:玻璃基板常需进行金属化(如Cu、Al沉积),SEM可用于评估薄膜厚度、均匀性及附着力。同时结合能量色散X射线谱(EDS, Energy Dispersive Spectroscopy)可以分析玻璃基板的化学成分,检测金属涂层和填充材料的元素分布,优化玻璃基板的制造工艺。

图3  镀层成分分布检测(Apreo 2拍摄)

      玻璃基板因其优异的电学、机械和热学性能,正逐步成为半导体行业的新兴材料。玻璃通孔(TGV)技术的成熟使其在先进封装和高频应用中展现出巨大潜力,而扫描电子显微镜(SEM)等高精度表征手段则为玻璃基板的质量控制提供了重要支持。赛默飞超高分辨场发射扫描电镜Apreo 2兼具低电压高质量成像和多功能分析性能于一体,采用双引擎技术,超低电压下可直接分析玻璃样品,且无需做喷镀处理如上面展示案例所示,在低电压下,直接将玻璃样品置于Apreo 2电镜中进行拍摄,同时凭借快捷的FLASH功能,设备可自动执行精细调节动作,只需移动几次鼠标,就可完成必要的合轴对中、消像散和图像聚焦校正,即使电镜初学者也能充分发挥Apreo 2的ZUI佳性能。

     未来,随着半导体封装技术的进步,玻璃基板有望在5G通信、AI芯片、光通信等领域发挥更大的作用。

 

 

上一篇下一篇
复制成功
微信号:13126536208
添加微信好友,详细了解产品。
知道了