赛默飞世尔科技 Helios 5 DualBeam 具有 Helios 5 产品系列高性能成像和分析性能。它经过设计，可满足材料 科学 研究人员和工程师对广泛的 FIB-SEM 使用需求，即使是具挑战性的样品。

     Helios 5 DualBeam 重新定义了高分辨率成像的标准：材料对比度，快速、简单、精确的高质量样品制备，用于 S/TEM 成像和原子探针断层扫描（APT）以及亚表面和 3D 表征。在 Helios DualBeam 系列久经考验的性能基础上， Helios 5 DualBeam 进行了改进优化，所有这些都旨在确保系统处于手动或自动工作流程的运行状态。

     半导体行业技术参数：

     材料科学行业技术参数：

     更易于使用：

     Helios 5 对所有经验水平用户而言都是容易使用的 DualBeam 系统。操作人员培训可以从几个月缩短到几天，其系统设计可帮助所有操作人员在各种应用程序上实现一致、可重复的结果。

     提高了生产率：

     Helios 5 和 AutoTEM 5 软件的先进自动化功能，可靠性和稳定性允许无人值守甚至夜间操作，显著提高样品制备通量。

     改善时间和结果：

     Helios 5 DualBeam 引入精细图像调节功能 FLASH （闪调）技术。借助 FLASH 技术，您只需在用户界面中进行简单的鼠标操作，系统即可“实时”进行消像散、透镜居中和图像 聚 焦。自动调整可以显著提高通量、数据质量并简化高质量图像的采集。平均而言，FLASH 技术可以使获得优化图像所需的时间缩短 10 倍。