产品功能介绍：

     氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。

     产品主要技术参数：

     1.离子枪:       两个配有稀土磁铁的三元构造（阴极、阳极与 聚 焦极）潘宁离子枪，聚 焦 离子束设计,高性能无耗材

     2.抛光角度:       +10° 到 -10° ，每个离子枪可独立调节

     3.离子束 能 量:       100 V 到 8.0 kV

     4.离子束流密度:    10 mA/cm2 峰值

     5.抛光速度:       300 μm/h（8.0 kV条件下对于硅试样）

     6.样品装载：    Ilion样品挡板, 装样简单，再次抛光位置准确，可重复使用，配合Sample Stub可直接转至SEM中观察

     7.样品旋转：    0.5到6 rpm连续可调

     8.束流调制： 离子束调制功能，可进行扇形截面抛光（扇形角度为10到90度可调）和平面抛光

     9.样品观察：    数码变焦显微镜，配有PC及Digital Micrograph软件采集图像，通过Gatan Digital Micrograph软件可进行实时成像（300x–2,200x）与图像存储和分析

     10.液氮冷台：配置液氮冷台，样品zui低温度可达-120°C,有效减少离子束对样品造成的 损 伤

     真空系统：

     11.干泵系统：两级隔膜泵支持80升/秒的涡轮分子泵

     12.压力：    5x10-6 托基本压力，8.5x10-5托工作压力

     13.真空规：    冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵

     14.样品空气锁：  Whisperlok设计，样品更换时间<1min，无需破样品室真空

     用户界面：

     15.10 英寸触摸屏：    操作简单，且能够完全程序化控制所有参数可进行 配 方操作。

     16.操作模式：自定义不同的加工参数组合，实现一键操作。

     产品主要应用领域：

     EBSD样品制备

     截面样品制备

     金属材料（合金，镀层）

     石油地质岩石矿物

     光电材料

     化工高分子材料

     新能源电池材料

     电子半导体器件

PCB电路版截面抛光SEM图

镀锌钢板截面抛光

Zn晶粒

Fe晶粒