意力博通系列离子溅射
依据二极(DC)直流溅射原理。溅射电流调整控制器、微型真空气阀在工作时结合内部自动控制电路控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体。
咨询电话:400-1001-303

 

     仪器名称:全自动离子溅射仪    型号:ETD-800

     原理:二极直流溅射

 

 

     仪器名称:离子溅射仪 型号:ETD-900M

     原理:磁控溅射

     在磁控溅射中,由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力,它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产

     生螺旋运动,其运动路径变长,因而增加了与工作气体分子碰撞的次数,使等离子体密度增大,从而磁控溅射速率得到很大的提高,而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。同时,经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时,已变成低能电子,从而不会使基片过热。

产品参数

     ETD-800参数:

     主机规格:260mm×307mm×260mm(W×D×H)

     电源规格:220V/50HZ

     靶(上部电极):50mm×0.1mm(D×H)

     靶材:Au

     真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 115mm×100mm(D×H)

     定时器: 最长时间:3600S

     机械泵: 1L/S

     最高电压:-1200  DCV

 

     ETD-900M参数:

     主机规格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)

     靶(上部电极):50mm×0.1mm(D×H)

     靶材:Au(标配)

     样品室:硼硅酸盐玻璃 160mm×120mm(D×H)

     靶材尺寸:Ф 50mm

     真空指示表: 最高真空度:≤ 4X10-2 mbar

     离子电流表: 最大电流:50mA

     定时器: 最长时间:0-360S 

     微型真空气阀:可连接φ 3mm 软管

     可通入气体: 多种

     最高电压: -1600 DCV 

     机械泵:标准配置 2L/S(国产 VRD-8)

 

特点与用途:


     ETD-800用途:

     适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备。

     特点:

     可以通过更换不同的靶材(金、铂、银等),以达到更细颗粒的涂层。

     一键式操作,使用方便。


     ETD-900M用途:

     适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。


     特点:

     1、简单、经济、可靠、外观精美。

     2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。

     3、SETPLASMA 手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。

     4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。

     5、同时可以通过更换不同的靶材(金、铂、铱、银、铜等),以达到更细颗粒的涂层。

     6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。

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