仪器名称：全自动离子溅射仪    型号：ETD-800

     原理：二极直流溅射

     仪器名称：离子溅射仪 型号：ETD-900M

     原理：磁控溅射

     在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产

     生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增 加，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。同时，经过多次碰撞而丧失能 量的电子到达阳极时，已变成低能电子，从而不会使基片过热。

     ETD-800参数：

     主机规格：260mm×307mm×260mm（W×D×H）

     电源规格：220V/50HZ

     靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H）

     靶材：Au

     真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 115mm×100mm（D×H）

     定时器： zui 长时间：3600S

     机械泵： 1L/S

     zui 高电压：-1200  DCV

     ETD-900M参数：

     主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）

     靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H）

     靶材：Au（标配）

     样品室：硼硅酸盐玻璃 160mm×120mm（D×H）

     靶材尺寸：Ф 50mm

     真空指示表： zui 高真空度：≤ 4X10-2 mbar

     离子电流表： zui 大电流：50mA

     定时器：zui 长时间：0-360S 

     微型真空气阀：可连接φ 3mm 软管

     可通入气体： 多种

     zui 高电压： -1600 DCV 

     机械泵：标准配置 2L/S（国产 VRD-8）

特点与用途：

     ETD-800用途：

     适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备。

     特点：

     可以通过更换不同的靶材（金、铂、银等），以达到细颗粒的涂层。

     一键式操作，使用方便。

     ETD-900M用途：

     适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。

     特点：

     1、简单、经济、可靠、外观精美。

     2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。

     3、SETPLASMA 手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的 损 伤。

     4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。

     5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。

     6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。