产品功能介绍
Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。
产品主要技术特点：
精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II，采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光，去 除 损失层，从而得到高质量的样品，用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外将这两支离子枪对准靶材溅射，可用来对样品做导电金属膜沉积处理，以 防 止样品在电镜中发生荷电效应。
这款仪器被设计为不破坏真空，不将样品新鲜表面暴露在大气中，即可对抛光样品进行处理。样品的装卸是通过一个专门设计的装样工具在真空交换舱中完成。
两支具有更大电压范围的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的抛光。低能 聚 焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持一致。每个离子枪都能准确独立地进行对中。在仪器运行过程中，离子枪的角度可进行调整。离子枪的气流可在触摸屏上通过手动方式或者自动方式进行调整， 用于优化离子枪的工作电流。
PECS II样品台采用液氮制冷方式。可以有效的保护样品，避免离子束热 损 伤，消除可能的假象。
集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对PECS II系统的所有操作参数进行完全控制。此界面可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为标准，调用标准可获得高精度重复实验。
涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。通过Gatan的样品装卸工具能实现快速样品交换（< 1min），这样就能保证换样过程中加工舱室始终处在高真空状态。
图片说明：（A）PECSII 抛光的样品表面的二次电子像，显示出高度孪晶的晶粒（B）PECSII抛光后的锆合金的菊池花样（C）EBSD欧拉角分布图（D）IPFZ面分而战。照片由牛津大学材料学院AngusWilkin-son 教授和Hamidreza Abdolvand 博士提供。数据是在配有BrukerQuantax EBSD系统的Zeiss Merlin Compact扫描电镜上采集。
