Thermo Scientific™ Apreo ChemiSEM™ 场发射电 镜是高性能与高质量成像的不二之选。它集成了 元素成分与结构分析于一体的自动工作流程，让不同经验的用户都能轻松获得高质量数据。

     Apreo ChemiSEM为大型研究机构和工业客户提供适用于各种样品 与不同经验水平用户的完全集成的分析技术与完整的分析结果。 对于有多个使用用户和多种样品类型的多功能实验室来说，该系统的全新智能帧积分 (SFI)、自动对焦和自动消像散功能可自动优化图像采集参数并采集数据，无需手动调节。该系统始终保持ZUI优状态，可随时进行成像，让用户有更多时间专注于获取所需的数据。

     采用 ChemiPhase 对钢材中的复合夹杂物进行相分析。ChemiPhase 可有效鉴定各种夹杂物，获取各种夹杂物的成分和面积分数，还能轻松探测出意想不到的相，通过一次分析即可提取完整的信息。

主要特点

高分辨率成像性能：Thermo Scientific™  Trinity™  探测检测系统及自动化 技术可简化各种应用中的数据采集工作

先进的优化分析解决方案：TrueSightPro  EDS探检测器、ChemiSEM技术和 TruePix EBSD 探检测器可对样品进行完整全面表征

综合工作流程：兼容MAPS 软件、自定义脚本和 CleanConnect™， 兼 容性让用户可您能够全面完全控制分析流程

     Apreo ChemiSEM 系统集成了三项有助于简化操作并确保结果可靠性的先进功能：Thermo Scientic ™ ChemiSEM ™ 技术、新型TruePix 背散射电子衍射仪 (EBSD) 以及独特的 Thermo Scientic ™Trinity ™ 镜筒内探测系统。

     ChemiSEM 技术利用全自动实时定量算法呈现仅通过成像无法注 意到的特征，为样品提供更完整的信息。该功能随时运行且易于 使用，可更快提供结果，有助于消除用户偏差。

     TruePix EBSD 探测器与 Apreo ChemiSEM 系统配合使用，可扩大 应用范围。全新的 EBSD 软件可用于控制该探测器，引导用户完 成参数设置、数据采集以及数据处理。

     Trinity 镜筒内探测系统可实现高质量的形貌、极表面和成分信息 的同步采集，而无需使用 ETD 或 BSD 探测器。

     其具有独特的信号过滤选项，1 kV 电压下不加电子束减速即可得到 0.9 nm 的ZUI高分辨率。

     Apreo ChemiSEM 系统将高分辨率成像、元素分析和结构分析相 结合，为用户提供分析各类型材料的强大工具。

电子光学

•     高分辨率场发射 SEM 镜筒具有以下特点：

–   高稳定肖特基场发射枪，提供稳定的高分辨分析束流

–   复合末级透镜，组合静电透镜、无漏磁透镜和浸没式磁透镜（选配）

–   60° 物镜几何结构，允许较大样品倾斜

–  自加热光阑确保清洁度，无接触式光阑切换

• SmartAlign 技术：无需用户对中

• 低真空模式（选配）下通过透镜差分抽真空减小裙散效应， 实现准确分析和ZUI高分辨率成像

•  电子束减速功能，样品台偏压范围为 -4,000 V 至 +600 V

• 束流连续变化，孔径角ZUI优化

• 双样品台扫描偏转

• 电子枪安装和维护简单：自动烘烤、自动启动、无需机械对准

• PivotBeam 模式，用于选区电子通道衬度成像，也称为“摇 摆电子束”模式（仅限于 Apreo ChemiSEM S 型）

•  ZUI短灯丝寿命：36 个月

ChemiSEM 技术

• TrueSight；探测器尺寸：25 或 70 mm²

• 能量分辨率高达 125 eV @ Mn Κα₁

• 元素探测范围为 Be-Am

• 轻元素灵敏度可探测至硅 (Si Lα)

SEM-EDS 功能完全集成于单一用户界面中

• 基于项目的数据存储

• 项目数据树，方便轻松管理数据

• 行业标准数据格式

• 专用分析模式，实现点、线和面扫描模式之间的无缝融合

• 在 xT SEM 用户界面中选择可用的电子图像类型

• 一键生成报告

• 和峰和逃逸峰去除

• 自动谱峰识别

• 合成峰与背底叠加

• 在大范围工作距离、束流和电子束能量范围内进行准确定量

• 用户可定义选择包含、排除或定量缺失某元素

• 自动或用户自定义选择 KLM 线系进行定量分析

• 通过数字滤波法去除背底

• 通过ZUI小二乘滤波法拟合进行无标样定量分析

• 使用 PROZA 基体校正法，实现优异的轻元素定量

• 定性和定量线扫描，可按时长或计数停止测试

• ChemiSEM 技术，结合电子图像算法实现快速面定量

• 定量面扫描始终开启，提供谱峰剥离的定量面扫描

• 计数面扫描，支持单元素线系选择

• 过 square kernelization 进行定量面扫描（选配）

• 将多个面扫描图像叠加到电子图像上

• 用户自定义或自动选择元素颜色

• 通过导航蒙太奇采集和拼接多个视场

• 兼容 MAPS 软件，实现多视场的自动拼接

• 使用点和矩形框进行谱图提取

• 通过灵活选择线方向、宽度和点数，从 X 射线面扫描图像中提 取线扫描数据

• 多谱图归一化对比

• 基于 DCFI 进行面扫描的漂移校正

• 采用化学计量法对硼化物、碳化物、氧化物和氮化物进行化合 物分析

• ChemiPhase 通过多元统计分析法进行实时或离线相鉴定

• ChemiView 实现不同数据类型的离线再处理和报告生成

TruePix  EBSD 探测器

• 混合像素化直接电子 EBSD 探测器

• 单一探测器，由单个基于 Timepix 的模块组成

• 零读取噪声、高信号背底比

• 零畸变

• 单颗粒计数

• 能量阈值化

• 2000 FPS 帧读取率

• 一分钟内完成探测器插入、校准、花样优化和面扫描自动设置

EBSD 采集和数据处理软件

• 全面集成在线采集和离线数据处理系统

• 自动花样优化：系统从待采集区域随机点采集 >20 个EBSP，实现优质的背底校准

• ZUI大曝光量测定：系统确定信号饱和前的ZUI大曝光量，当曝光时间超过ZUI大曝光量进行自动帧积分

• 自动平场校正和衬度增强（另外提供校准程序）

• 针对不同探测器位置、工作距离和样品倾斜角度自动进行花 样中心校准

• 可叠加任意类型的图像

• 晶粒尺寸直方图

• 噪声去除和像素增强

• 用户自定义模板化报告

• 标定所有的七类晶系和 11 种劳厄群

• 多相同时标定

• 快速傅里叶变换和花样衬度质量指标

• 低 SEM 放大倍率花样中心校正

• EBSP 的ZUI佳拟合运动学模拟与叠加

• 欧拉图、X/Y/Z 反极图（轧向、法向、横向）、欧拉取向图、 相图和取向差面扫描

真空系统

• 完全无油的真空系统

• 1 × 240 l/s 涡轮分子泵

• 1 × PVP 涡旋泵

• 2 × IGP

• 样品仓真空度（高真空）<6.3×10-6 mbar（泵工作 12 小时后）

• 抽真空时间：≤ 3.5 分钟

• 低真空模式（腔室压力为 10-500 Pa）（选配）

• 限压光阑 (PLA) 自动加载装置

样品台

•  标准多功能样品座，可直接安装在样品台上，可容纳多达18 个标准样品托（直径为 12 mm）、三个预倾斜样品托、 截面样品托和两个预倾斜 STEM 样载条（选配）（38 ° 和 90°）；安装样品无需使用工具

• 每个选配 STEM 载条可容纳六个 STEM 载网

• 晶圆及定制样品台（选配）

电子束分辨率

BD：电子束减速模式，WD：工作距离（除非另有说明，否则按ZUI佳工作距离提供分辨率）。默认情况下，ZUI终安装后系统验收测试条件为：高真空 1 kV 和 30 kV 条件 ，开 启浸没模式（如适用）。

电子束参数范围

电子束参数范围：1 pA 至 50 nA（可选配 400 nA ）

• 加速电压范围：200 V - 30 kV

• 着陆能量范围：20 eV - 30 keV

• ZUI大水平视场宽度：10 mm WD 时为 3 mm（ZUI小放大倍率： 29x ）

样品仓

• 内宽：340 mm

• 分析工作距离：10 mm

• 端口：12

通过电子束减速 (BD) 对氧化镁颗粒进行低 kV 表征 (500 V)。BD 可改进形貌细节并 减少荷电效应。

探测器

Apreo ChemiSEM 可任意组合不同探测器或探测器的分区（选配）， 可同时探测多达四种信号：

• Trinity 探测系统（物镜内和镜筒内）

–   T1 分割式物镜内低位探测器

–   T2 物镜内中位探测器

–   T3 镜筒内高位检测器（选配）

• TD：Everhart-Thornley 二次电子探测器

• DBS：可伸缩分区式极靴下 背散射电子探测器（选配）

• 低真空二次电子探测器（选配）

• DBS-GAD：安装在物镜上的气氛分析背散射电子探测器（选配）

• STEM 3+ 可伸缩分区式探测器 (BF、DF、HADF、HAADF）（选配）

• 红外 CCD

• hermo Scientifc™  Nav-Cam™  导航相机（样品仓内）